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新型石墨烯晶體管實(shí)現(xiàn)高開關(guān)比率

作者:新聞中心 來(lái)源:中國(guó)科技網(wǎng) 發(fā)布時(shí)間:2013-01-24 瀏覽:次
中國(guó)儲(chǔ)能網(wǎng)訊:據(jù)物理學(xué)家組織網(wǎng)1月23日(北京時(shí)間)報(bào)道,英國(guó)曼徹斯特大學(xué)的科研人員設(shè)計(jì)出一種新型石墨烯晶體管,在其中電子可借助隧穿和熱離子效應(yīng),同時(shí)從上方和下方穿越障礙,并在室溫下展現(xiàn)出高達(dá)1×106的開關(guān)比率。

  石墨烯晶體管獲得較高的開關(guān)比率一直難以實(shí)現(xiàn),而有了高開關(guān)比,以及其在柔性、透明基板上的操作能力,新型晶體管能夠在后CMOS設(shè)備時(shí)代占有一席之地,并有望達(dá)到更快的計(jì)算速度。相關(guān)研究發(fā)表在近期出版的《自然·納米技術(shù)》雜志上。

  石墨烯晶體管多具有三明治結(jié)構(gòu),以原子厚度的石墨烯作為外層,而以其他超薄材料作為中間夾層。這些中間層可以囊括多種不同材料。在此次的研究中,科學(xué)家使用二硫化鎢(WS2)作為中間層,其能夠作為兩個(gè)石墨烯夾層之間原子厚度的壁壘。與其他壁壘材料相比,二硫化鎢的最大優(yōu)勢(shì)在于,電子可借助熱離子運(yùn)輸方式從上方越過(guò)障礙,也可利用隧穿效應(yīng)從下方穿過(guò)障礙。處于關(guān)閉狀態(tài)時(shí),極少電子能借助上述方式穿越障礙,但當(dāng)調(diào)至開啟狀態(tài)時(shí),電子既能選用一種方式逾越壁壘,亦能同時(shí)選擇兩種方式以實(shí)現(xiàn)類似效果。

  開關(guān)間切換將改變晶體管的柵電壓。負(fù)柵電壓將形成關(guān)閉狀態(tài),因?yàn)槠鋵⒃黾铀泶┱系K高度,因此幾乎沒(méi)有電子能夠越過(guò)壁壘。而正柵電壓能通過(guò)降低隧穿障礙的高度使晶體管轉(zhuǎn)換至開啟狀態(tài)。同時(shí),如果溫度足夠高,亦可借助熱離子電流從上方越過(guò)壁壘。在低電壓和低溫的情況下,隧穿電流與電壓呈線性關(guān)聯(lián)。但當(dāng)處于高壓下時(shí),隧穿電流會(huì)隨電壓呈現(xiàn)指數(shù)增長(zhǎng),此時(shí)熱離子電流就會(huì)成為主要的傳輸機(jī)制。

  利用上述特質(zhì)和二硫化鎢壁壘材料,新晶體管成為目前性能最佳的石墨烯晶體管之一。此外,由于僅具有幾個(gè)原子層的厚度,新型晶體管能夠耐受彎曲,未來(lái)更有望應(yīng)用于柔性、透明電子設(shè)備的制造,成為后CMOS設(shè)備時(shí)代的有力備選。
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